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集成电路散热板用高导热氮化铝陶瓷基板基片、led氮化铝基板

更新:2022-10-21 09:43 发布者IP:175.10.89.210 浏览:2次
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关键词
高导热氮化铝陶瓷基片,集成电路基板氮化铝,led氮化铝基板
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产品详细介绍

氮化铝陶瓷基板、基片

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  985894327.jpg

氮化铝(AlN)是共价键化合物,原子晶体,属类金刚石氮化物、六方晶系,纤锌矿型的晶体结构,无毒,呈白色或灰白色,理论密度3.26g/cm3。

氮化铝材料具有如下特性:

(1)高热导率 (理论值约320W/m·K);
(2)高绝缘性;
(3)低热膨胀系数(4.5×10-6℃)与Si(3.5~4×10-6℃)和GaAs(6×10-6℃)匹配;
(4)电性能优良(介电常数、介质损耗、体电阻率、介电强度);
(5)机械性能好;
(6)耐腐蚀性好;
(7)光传输特性好;

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 氮化铝陶瓷已成为新一代大规模集成电路、半导体模块及大功率器件的理想的散热和封装材料,大量应用于HBLED、UVLED封装、大功率集成电路、功率模块、RF射频/微波通讯、汽车电子、微电子半导体、影像传输等领域。

氮化铝陶瓷材料具有优良的热传导性、可靠的电绝缘性、低的介电常数和介电损耗,可用于制造高导热无磁骨架材料、电子基片、微波介电材料、耐高温、绝缘及耐腐蚀结构陶瓷材料制品。氮化铝陶瓷还可用作熔炼有色金属和半导体材料砷化镓的坩埚、蒸发舟、高温绝缘件、微波介电材料、耐高温及耐腐蚀结构陶瓷及透明氮化铝微波陶瓷制品等。

氮化铝陶瓷技术性能参数表一 

999338695.jpg

分类

项目

单位

指标值

AN170

AN200

AN220

基本性能

颜色

灰色

米色

吸水率

%

0

体积密度

g/cm3

≥3.30

≥3.23

表面粗糙度

µm

0.1~0.6

翘曲率

≤2

热学性能

热导率(20℃)

W/m.k

≥170

≥200

≥220

热膨胀系数

20℃~300℃

×10-6/℃

4.6

40℃~800℃

5.2

力学性能

抗弯强度

Mpa

≥450

≥300

≥200

弹性模量

Gpa

320

310

莫氏硬度

8

电学性能

抗电强度

KV/mm

≥17

≥16

≥15

体积电阻率

Ω.cm

≥1014

≥1013

介电常数

9

8.6

8.5

介电损耗

×10-4

2.98

2

1000699813.jpg 

 

氮化铝陶瓷技术性能参数表二

性能内容

性能指标

体积密度

≥3.3 g/cm3

吸水率

0%

热导率(20℃)

≥170W/m·k

线膨胀系数(RT-400℃)

4.4×10-6/℃

抗弯强度(Mpa)

≥330

体积电阻率

≥1014Ω·cm

介电常数(1MHz)

9.0

介质损耗

3×10-4

抗电强度

≥15KV/mm

表面粗糙度Ra

0.3~0.5µm(≤20nm)

翘曲度(~/25.4(长度))

0.03~0.05

外观

致密、细晶

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所属分类:中国冶金矿产网 / 其他非金属矿物制品
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成立日期2015年01月26日
法定代表人姜胜天
注册资本50
登记机关长沙市工商行政管理局岳麓分局
主营产品溅射靶材,金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材,氧化物靶材,氟化物靶材,硫化物靶材,蒸发镀膜材料,半导体材料,太阳能光伏材料,电子材料,金属粉末,氧化物粉末,贵金属材料,镀膜基片,坩埚
经营范围新材料技术推广服务;有色金属批发;有色金属压延加工;自营和代理各类商品及技术的进出口,但国家限定公司经营或禁止进出口的商品和技术除外。
公司简介 长沙市啟睿新材料有限公司,地址位于湖南省长沙市岳麓区,是专业销售溅射靶材、蒸发材料、各种高纯金属材料料为主的一家高科技创新企业。 溅射靶材主要通过烧结、热等静压、真空熔炼、粉末冶金等方法制备,可根据客户的具体要求定做不同成分、规格的镀膜材料,并为客户提供技术上的服务与支持。 公司主营产品:溅射靶材(金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、氧化物靶材、氟化物靶材、硫化物靶材)、蒸发镀膜材料、无 ...
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